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南京舜儀實(shí)驗(yàn)設(shè)備有限公司是由南京和同創(chuàng)業(yè)科技有限責(zé)任公司變更而來(lái)，擁有“舜儀”和“SAINTINS”等注冊(cè)商標(biāo)。公司致力于等離子體相關(guān)產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)，目前主要生產(chǎn)小型離子濺射和小型磁控濺射，獲得客戶(hù)廣泛認(rèn)可。隨著對(duì)行業(yè)的不斷深入，期待能夠推出更多質(zhì)優(yōu)價(jià)廉的設(shè)備，為我們的儀器行業(yè)添磚加瓦。我們追求的目標(biāo)是為用戶(hù)提供滿(mǎn)意的產(chǎn)品及服務(wù)，以重諾守信，嚴(yán)謹(jǐn)求實(shí)，目光遠(yuǎn)大的行為為準(zhǔn)則?！八粗?，儀之質(zhì)”，對(duì)于新老客戶(hù)，我們將一如既往,恪守“服務(wù)至上”的承諾，與用戶(hù)保持長(zhǎng)期的合作，為用戶(hù)提供放心的，滿(mǎn)意的的產(chǎn)品。我們將憑借高效、高質(zhì)的服務(wù)，高信任度的企業(yè)形象與廣大用戶(hù)共同發(fā)展！由于（北京和同創(chuàng)業(yè)科技有限責(zé)任公司）的業(yè)務(wù)調(diào)整，原有的產(chǎn)品將逐漸由（南京舜儀實(shí)驗(yàn)設(shè)備有限公司）承接，所有服務(wù)和承諾不變。

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技術(shù)文章

Technical articles

2026
1-21

薄膜制備小型磁控濺射儀的結(jié)構(gòu)組成及特性分析
薄膜制備技術(shù)在現(xiàn)代材料科學(xué)和工程中占據(jù)著重要地位，尤其是在電子器件、光電器件及傳感器等領(lǐng)域。磁控濺射是一種廣泛應(yīng)用于薄膜制備的物理氣相沉積（PVD）方法，其優(yōu)點(diǎn)...
2025
12-17

小功率冷卻水循環(huán)機(jī)的結(jié)構(gòu)組成及常見(jiàn)應(yīng)用
小功率冷卻水循環(huán)機(jī)是一種在實(shí)驗(yàn)室、工業(yè)和商業(yè)應(yīng)用中廣泛使用的設(shè)備。它的主要功能是提供穩(wěn)定的冷卻水流，以維持設(shè)備或?qū)嶒?yàn)的溫度，確保其正常運(yùn)行?；竟ぷ髟硎峭ㄟ^(guò)壓...
2025
11-20

光纖鍍膜小型離子濺射儀的主要組成部分及其應(yīng)用
光纖鍍膜小型離子濺射儀是一種專(zhuān)用于光纖表面涂層和薄膜沉積的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于光電子、通訊、光學(xué)、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。離子濺射技術(shù)利用高能離子轟擊靶材，通過(guò)濺射效應(yīng)使靶材...
2025
10-23

薄膜制備小型磁控濺射儀的具體工作過(guò)程分析
薄膜制備小型磁控濺射儀是一種利用磁控濺射技術(shù)進(jìn)行薄膜制備的實(shí)驗(yàn)室設(shè)備。磁控濺射技術(shù)是一種常用的物理氣相沉積（PVD）方法，通過(guò)高能粒子撞擊靶材，將靶材原子或分子...
2025
9-17

薄膜制備小型磁控濺射儀的工作原理及設(shè)計(jì)要點(diǎn)
磁控濺射是利用磁場(chǎng)增強(qiáng)的濺射效應(yīng)來(lái)制備薄膜的一種物理氣相沉積（PVD）方法。其基本原理是通過(guò)電場(chǎng)將離子加速，撞擊靶材表面，導(dǎo)致靶材原子或分子濺射出來(lái)，并沉積到基...
2025
8-20

低溫濺射小型磁控濺射儀的操作注意事項(xiàng)
低溫濺射小型磁控濺射儀是一種物理氣相沉積（PVD）技術(shù)，利用高能粒子轟擊靶材（一般是金屬或合金）表面，使靶材原子脫離并在基底表面沉積成薄膜。磁控濺射是在傳統(tǒng)濺射...
2025
7-16

桌面型小型離子濺射儀：高效薄膜沉積的新選擇
離子濺射是一種基于離子與固體表面碰撞的物理過(guò)程。當(dāng)高能離子（如氬離子）轟擊靶材表面時(shí)，靶材中的原子或分子受到?jīng)_擊力從表面彈出，產(chǎn)生濺射效應(yīng)。濺射出的原子或分子會(huì)...
2025
6-17

冷濺射小型磁控濺射儀具有良好的濺射過(guò)程控制能力
冷濺射小型磁控濺射儀是一種用于薄膜材料沉積的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體工業(yè)、光電器件制造等領(lǐng)域。具有高精度、高沉積速率、低溫沉積等優(yōu)點(diǎn)，并能夠在不加熱基材...